VeTek semiconductor är en ledande tillverkare av tantalkarbidbeläggningsmaterial för halvledarindustrin. Våra huvudsakliga produkterbjudanden inkluderar CVD-tantalkarbidbeläggningsdelar, sintrade TaC-beläggningsdelar för SiC-kristalltillväxt eller halvledarepitaxiprocess. Godkänt ISO9001, VeTek Semiconductor har bra kontroll på kvaliteten. VeTek Semiconductor är dedikerade till att bli innovatör inom tantalkarbidbeläggningsindustrin genom pågående forskning och utveckling av iterativ teknologi.
Huvudprodukterna ärTaC-belagd styrring, CVD TaC-belagd styrring med tre kronblad, Tantalkarbid TaC-belagd halvmåne, CVD TaC-beläggning planetär SiC epitaxiell susceptor, Tantalkarbidbeläggningsring, Tantalkarbidbelagd porös grafit, TaC Coating Rotations Susceptor, Tantalkarbidring, TaC Beläggning Rotationsplatta, TaC-belagd wafer-susceptor, TaC-belagd deflektorring, CVD TaC beläggningsskydd, TaC-belagd chucketc., renheten är under 5 ppm, kan uppfylla kundernas krav.
TaC-beläggningsgrafit skapas genom att belägga ytan på ett högrent grafitsubstrat med ett fint lager av tantalkarbid genom en patenterad process för kemisk ångavsättning (CVD). Fördelen visas på bilden nedan:
Tantalkarbidbeläggningen (TaC) har fått uppmärksamhet på grund av sin höga smältpunkt på upp till 3880°C, utmärkta mekaniska hållfasthet, hårdhet och motståndskraft mot termiska stötar, vilket gör den till ett attraktivt alternativ till sammansatta halvledarepitaxiprocesser med högre temperaturkrav, såsom Aixtron MOCVD-system och LPE SiC epitaxiprocess. Den har också en bred tillämpning i PVT-metoden SiC kristalltillväxtprocess.
Nyckelfunktioner:
●Temperaturstabilitet
●Ultrahög renhet
●Motstånd mot H2, NH3, SiH4,Si
●Motstånd mot termiskt material
●Stark vidhäftning till grafit
●Konform beläggningstäckning
● Storlek upp till 750 mm diameter (den enda tillverkaren i Kina når denna storlek)
Ansökningar:
●Waferbärare
● Induktiv värmemottagare
● Resistivt värmeelement
●Satellitskiva
●Duschhuvud
●Styrring
●LED Epi-mottagare
●Insprutningsmunstycke
●Maskeringsring
● Värmesköld
Tantalkarbid (TaC) beläggning på ett mikroskopiskt tvärsnitt:
Parameter för VeTek Semiconductor Tantalkarbidbeläggning:
|
Fysiska egenskaper hos TaC-beläggning
|
|
Densitet
|
14,3 (g/cm³)
|
|
Specifik emissionsförmåga
|
0.3
|
|
Termisk expansionskoefficient
|
6,3 10-6/K
|
|
Hårdhet (HK)
|
2000 HK
|
|
Motstånd
|
1×10-5Ohm*cm
|
|
Termisk stabilitet
|
<2500℃
|
|
Grafitstorleken ändras
|
-10~-20um
|
|
Beläggningstjocklek
|
≥20um typiskt värde (35um±10um)
|
TaC-beläggning EDX-data：
TaC beläggning kristallstruktur data:
|
Element
|
Atomprocent
|
|
|
Pt. 1
|
Pt. 2
|
Pt. 3
|
Genomsnitt
|
|
C K
|
52.10
|
57.41
|
52.37
|
53.96
|
|
M
|
47.90
|
42.59
|
47.63
|
46.04
|
