Produkter

Silikonkarbidbeläggning

VeTek Semiconductor specialiserar sig på produktion av ultrarena Silicon Carbide Coating-produkter, dessa beläggningar är designade för att appliceras på renad grafit, keramik och eldfasta metallkomponenter.


Våra beläggningar med hög renhet är främst avsedda för användning inom halvledar- och elektronikindustrin. De fungerar som ett skyddande lager för waferbärare, susceptorer och värmeelement, och skyddar dem från korrosiva och reaktiva miljöer som påträffas i processer som MOCVD och EPI. Dessa processer är integrerade i waferbearbetning och tillverkning av enheter. Dessutom är våra beläggningar väl lämpade för tillämpningar i vakuumugnar och provuppvärmning, där högvakuum, reaktiva och syremiljöer förekommer.


På VeTek Semiconductor erbjuder vi en heltäckande lösning med våra avancerade maskinverkstadsmöjligheter. Detta gör det möjligt för oss att tillverka baskomponenterna med grafit, keramik eller eldfasta metaller och applicera SiC- eller TaC-keramiska beläggningar internt. Vi tillhandahåller också beläggningstjänster för kundlevererade delar, vilket säkerställer flexibilitet för att möta olika behov.


Våra kiselkarbidbeläggningsprodukter används ofta i Si-epitaxi, SiC-epitaxi, MOCVD-system, RTP/RTA-process, etsningsprocess, ICP/PSS-etsningsprocess, process av olika LED-typer, inklusive blå och grön LED, UV LED och djup UV LED mm, som är anpassad till utrustning från LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI och så vidare.


Reaktordelar vi kan göra:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Kiselkarbidbeläggning flera unika fördelar:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



VeTek Semiconductor Silicon Carbide Coating Parameter

Grundläggande fysikaliska egenskaper för CVD SiC-beläggning
Egendom Typiskt värde
Kristallstruktur FCC β-fas polykristallin, huvudsakligen (111) orienterad
SiC-beläggning Densitet 3,21 g/cm³
SiC-beläggningHårdhet 2500 Vickers hårdhet(500g belastning)
kornstorlek 2~10μm
Kemisk renhet 99,99995 %
Värmekapacitet 640 J·kg-1·K-1
Sublimeringstemperatur 2700 ℃
Böjningsstyrka 415 MPa RT 4-punkts
Youngs modul 430 Gpa 4pt böj, 1300℃
Värmeledningsförmåga 300W·m-1·K-1
Termisk expansion (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC FILM KRISTALSTRUKTUR

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
Focusring av kiselkarbid

Focusring av kiselkarbid

Veteksemicon fokusring är designad speciellt för krävande halvledaretsningsutrustning, speciellt SiC-etsningsapplikationer. Monterad runt den elektrostatiska chucken (ESC), i nära anslutning till skivan, är dess primära funktion att optimera det elektromagnetiska fältfördelningen i reaktionskammaren, vilket säkerställer enhetlig och fokuserad plasmaverkan över hela skivans yta. En högpresterande fokusring förbättrar avsevärt enhetligheten i etsningshastigheten och minskar kanteffekterna, vilket direkt ökar produktutbytet och produktionseffektiviteten.
Silikonkarbidbärarplatta för LED-etsning

Silikonkarbidbärarplatta för LED-etsning

Veteksemicon Silicon Carbide Carrier Plate For LED Etching, speciellt designad för LED-chiptillverkning, är en kärna förbrukningsvara i etsningsprocessen. Tillverkad av precisionssintrad kiselkarbid med hög renhet, erbjuder den exceptionell kemisk beständighet och dimensionsstabilitet vid hög temperatur, vilket effektivt motstår korrosion från starka syror, baser och plasma. Dess låga kontamineringsegenskaper säkerställer höga utbyten för LED-epitaxiella wafers, medan dess hållbarhet, som vida överstiger traditionella material, hjälper kunderna att minska de totala driftskostnaderna, vilket gör det till ett pålitligt val för att förbättra effektiviteten och konsistensen av etsningsprocessen.
Solid SiC Focus Ring

Solid SiC Focus Ring

Veteksemi solid SiC fokusring förbättrar etsningslikformigheten och processstabiliteten avsevärt genom att exakt kontrollera det elektriska fältet och luftflödet vid waferkanten. Det används ofta i precisionsetsningsprocesser för kisel, dielektrikum och sammansatta halvledarmaterial, och är en nyckelkomponent för att säkerställa massproduktionsutbyte och långsiktigt tillförlitlig utrustningsdrift.
CVD SIC -belagd grafitduschhuvud

CVD SIC -belagd grafitduschhuvud

CVD SIC-belagda grafitduschhuvud från Veteksemicon är en högpresterande komponent som är speciellt utformad för halvledarens kemiska ångavlagringsprocesser (CVD). Tillverkad av grafit med hög renhet och skyddad med en kemisk ångavlagring (CVD) kiselkarbid (SIC) beläggning, ger detta duschhuvud enastående hållbarhet, termisk stabilitet och resistens mot frätande processgaser. Ser fram emot ditt ytterligare samråd.
Kiselkarbidbeläggningsskiva

Kiselkarbidbeläggningsskiva

Silicon Carbide Coating Wafer Holder av Veteksemicon är konstruerad för precision och prestanda i avancerade halvledarprocesser såsom MOCVD, LPCVD och högtemperatur-glödgning. Med en enhetlig CVD-SIC-beläggning säkerställer denna skivahållare enastående värmeledningsförmåga, kemisk inerthet och mekanisk styrka-nödvändig för föroreningsfri, högavkastningsskivbehandling.
Sickantring

Sickantring

Veteksemicon SiC-ringar med hög renhet, speciellt utformad för halvledarets etsningsutrustning, har enastående korrosionsbeständighet och termisk stabilitet, vilket förbättrar skivutbytet avsevärt skiva
Som professionell Silikonkarbidbeläggning tillverkare och leverantör i Kina har vi vår egen fabrik. Oavsett om du behöver anpassade tjänster för att tillgodose de specifika behoven i din region eller vill köpa avancerad och hållbar Silikonkarbidbeläggning tillverkad i Kina, kan du lämna ett meddelande till oss.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept