CVD Tantalkarbid(TaC) belagd susceptor

Nyckelfunktioner

Ansökningar

Typiska applikationer inkluderar:

• SiC epitaxiell tillväxt

• GaN MOCVD-epitaxi

• AlN epitaxiell tillväxt

• Tredje generationens halvledartillverkning

• Kraftfull elektronik

• RF-enheter

• MicroLED-produktion

• Forskning och pilotproduktionssystem

Kompatibel utrustning

Kompatibla plattformar inkluderar:

• Aixtron

• LPE

• Veeco

• AMEC

• NuFlare

• Anpassade CVD- och MOCVD-reaktorer

Finns även:

• Waferbärare

• Planetariska susceptorer

• Fatsusceptorer

• Rotationsskivor

• Halvmånedelar

• Täckplåtar

• Grafitaggregat

• Anpassade termiska fältkomponenter

Tekniska specifikationer

Vanliga frågor

1. Vad är en CVD TaC-belagd susceptor?

En högren grafitkomponent skyddad av en tät CVD TaC-beläggning som används som waferbärare under epitaxiell tillväxt.

2. Varför använda TaC coating istället för SiC-beläggning?

TaC erbjuder högre temperaturbeständighet, överlägsen kemisk stabilitet och längre livslängd.

3.Vilka halvledarprocesser använder TaC-coated susceptorer?

SiC-epitaxi, GaN MOCVD, AlN-epitaxi och andra högtemperaturkristalltillväxtprocesser.

4. Kan VETEK tillverka skräddarsydda susceptorer?

Ja. Vi tillhandahåller skräddarsydda konstruktioner baserat på kundens ritningar och processkrav.

5. Vilka reaktormärken stöds?

Aixtron, LPE, Veeco, AMEC, NuFlare och andra vanliga system.