Supporttjänst

VeTek Semiconductor levererar högkvalitativa aluminiumnitrid (AlN) enkristallskivor och substrat för nästa generations halvledarenheter med ultrabredt bandgap. Med ett ultrabrett bandgap på cirka 6,2 eV, enastående värmeledningsförmåga, exceptionell elektrisk isolering och utmärkt gitter- och värmeexpansionsmatchning med GaN, är AlN-skivor idealiska för högeffekts RF-enheter, högspänningskraftelektronik och djup-ultraviolett (DUV) optoelektronik.

VETEK Professional Cleaning Service för CVD SiC Coated Graphite Parts är en specialiserad teknisk tjänst designad för Aixtron / Veeco MOCVD-utrustningssusceptorer och grafitkomponenter som används i GaN / AlN / AlGaN epitaxiella processer. Vår proprietära rengöringsprocess eliminerar grundligt ytminneseffekten, återställer ett stabilt gasflöde i reaktorn och skyddar strikt 100 µm CVD SiC-beläggningen med absolut noll tjockleksförlust och noll metallrester.

Eftersom efterfrågan på MEMS-givare med hög känslighet och låg effekt växer i takt med utbyggnaden av 5G-kommunikation, medicinsk precisionsutrustning och smarta bärbara enheter, erbjuder våra PZT på Si/SOI-skivor en kritisk materiallösning. Genom att använda avancerade tunnfilmsavsättningsprocesser som Sol-gel eller sputtering uppnår vi exceptionell konsistens och överlägsen piezoelektrisk prestanda på silikonsubstrat. Dessa wafers fungerar som den grundläggande kärnan för elektromekanisk energiomvandling.

Tillväxt av kiselkarbidkristaller är en kärnprocess vid tillverkning av högpresterande halvledarenheter. Stabiliteten, precisionen och kompatibiliteten hos utrustning för kristalltillväxt avgör direkt kvaliteten och utbytet av kiselkarbidgöt. Baserat på egenskaperna hos Physical Vapor Transport (PVT) teknologi, har Veteksemi utvecklat en motståndsvärmeugn för tillväxt av kiselkarbidkristaller, vilket möjliggör stabil tillväxt av 6-tums, 8-tums och 12-tums kiselkarbidkristaller med full kompatibilitet med ledande, halvisolerande materialsystem och N-material. Genom exakt kontroll av temperatur, tryck och effekt reducerar den effektivt kristalldefekter som EPD (Etch Pit Density) och BPD (Basal Plane Dislocation), samtidigt som den har låg energiförbrukning och en kompakt design för att möta de höga standarderna för industriell storskalig produktion.

CMP-poleringsslurry (Chemical Mechanical Polishing Slurry) är ett högpresterande material som används i halvledartillverkning och precisionsmaterialbearbetning. Dess kärnfunktion är att uppnå fin planhet och polering av materialytan under den synergistiska effekten av kemisk korrosion och mekanisk slipning för att möta kraven på planhet och ytkvalitet på nanonivå. Ser fram emot din fortsatta konsultation.

Som en ledande kinesisk SIC -skivtillverkare och leverantörer är Vetek Semiconductor CVD SIC Coating Dummy Wafer ett specialiserat verktyg inom halvledartillverkning, främst används i syfte att testa kiselskiva och skivaprocess. Dina ytterligare förfrågningar är välkomna.