Produkter

Teknisk service

1.Rening och mappningar

VeTek Semiconductors tekniska tjänster täcker rening och kartläggning av olika halvledarmaterial, i syfte att förse kunder med högkvalitativa halvledarmaterial för en mängd olika applikationer. Vi har avancerad reningsteknik och utrustning för att effektivt ta bort föroreningar och därigenom öka renheten hos halvledarmaterial. Vår reningsprocess är noggrant utformad för att inkludera flera steg och strikt kvalitetskontroll för att säkerställa den utmärkta renheten och stabiliteten hos de tillhandahållna materialen.

Samtidigt är vi fast beslutna att förse våra kunder med korrekta och pålitliga karttjänster. Vi har avancerad testutrustning och instrument, och litar på ett erfaret professionellt team, kan utföra omfattande mätningar och analyser av egenskaperna hos halvledarmaterial. Vårt kartläggningsarbete omfattar tester av elektriska egenskaper, sammansättning, renhet, fysikaliska egenskaper etc. samt fördjupade studier av materialstruktur och sammansättning. Genom kartläggning kan vi få detaljerad data och information för att ge kunderna en korrekt bedömning av materialegenskaper och relevanta rekommendationer.

GDMS GDMS D-SIMS D-SIMS Coordinate measuring machine Koordinatmätmaskin

2. Maskinkapacitet

VeTek Semiconductor har ledande bearbetningskapacitet och erfarenhet för grafit, kiselkarbid och andra halvledarprodukter, vilket kan möta kundernas höga precision och höga renhet.

Hög kvalitet och andra bearbetningskrav. Verktygen vi använder, skärprocessen och materialvalet är också noggrant optimerade för att uppnå mikrometerstorlekskontroll och kontroll av produkten

Hög ytkvalitet. Vi uppmärksammar kvalitetskontroll och processoptimering i bearbetningsprocessen och utför realtidsövervakning och kontroll av nyckelparametrar i bearbetningsprocessen för att säkerställa kvaliteten på produkterna

Konsistens och stabilitet. Vi implementerar också ett strikt kvalitetsledningssystem för att säkerställa att produkterna bearbetas i enlighet med kundkrav och branschstandarder, och utför en omfattande kvalitetskontroll.

Vi kommer kontinuerligt att investera i förbättring av utrustning och teknisk innovation för att möta våra kunders växande behov och ge dem överlägsna lösningar och support.

3. Lösning av termisk fältmodifiering

När det gäller hemmal fältdesign och transformation kan vårt företag slutföra designen och satsförsörjningen till Czochra enkristall, gjutning av polykristall, gallilumarsenid, zinkselenid, safir, kiselkarbid och annan annan industriutrustning. Samtidigt, för den mekaniska termiska beräkningen av olika strukturer, komponenter och atmosfärer under olika högtemperaturmiljöer, har vi också professionella modellerings- och simuleringsberäkningsmöjligheter, vilket kan ge kunderna professionella designoptimeringsprogram och förslag.

Technical Service


Nyckelfunktioner

  • Materialrening och kartläggning: flerstegsrening och omfattande karakterisering (elektrisk, sammansättning, renhet, struktur) för högkvalitativa halvledarmaterial.
  • Precisionsbearbetning: ledande kapacitet för grafit, kiselkarbid och andra halvledardelar med dimensionskontroll på mikrometernivå och hög ytkvalitet.
  • Termisk fältdesign & modifiering: design och leverans för Czochralski, gjutning, GaAs, ZnSe, safir, SiC och andra system, plus termisk simulering och optimering.
  • Rengöring av CVD SiC-belagda delar: specialiserad rengöring för MOCVD-susceptorer och grafitkomponenter med noll förlust av beläggningstjocklek och noll metallrester.
  • Utrustningslösningar: stora motståndsvärmande SiC-kristalltillväxtugnar som stödjer 6–12 tums kristalltillväxt med exakt processkontroll.


Ansökningar

För att möta de olika behoven hos kunder med halvledarmaterial och utrustning erbjuder VeTek riktade tekniska tjänster. Följande tabell klassificerar dem efter huvudtjänstområden:

Serviceområde Typiska tjänster/produkter Applikationsbeskrivning
Materialrening & kartläggning Reningsprocesser; elektrisk / sammansättning / renhet / struktur testning och analys Ta bort föroreningar och karakterisera halvledarmaterial helt för att säkerställa hög renhet, stabilitet och noggrann egenskapsbedömning för olika applikationer.
Precisionsbearbetning Bearbetning av grafit, kiselkarbid och andra halvledarprodukter Högprecision, hög renhet med kontroll på mikrometernivå och hög ytkvalitet för grafit- och SiC-komponenter som används i halvledarutrustning.
Termisk fältdesign och modifiering Termisk fältdesign och batchförsörjning; termisk simulering och optimering Design och leverans av termiska fält för Czochralski, gjutning, GaAs, ZnSe, safir, SiC och andra system; mekanisk-termisk beräkning och designoptimering under höga temperaturer.
Rengöring av delar (CVD SiC) CVD SiC Coating Grafit Delar Rengöring Service Specialiserad rengöring för Aixtron/Veeco MOCVD-susceptorer och grafitdelar i GaN/AlN/AlGaN epi; tar bort minneseffekt, skyddar CVD SiC-beläggning (noll tjockleksförlust, noll metallrester).
Utrustning för kristalltillväxt Stora motståndsvärmande SiC kristalltillväxtugn PVT-baserade motståndsvärmeugnar för stabil 6–12 tum SiC-kristalltillväxt; exakt kontroll av temperatur, tryck och effekt för att minska defekter och stödja industriell produktion.

För relaterade material och processlösningar, seSilikonkarbidbeläggning, Speciell grafitochKiselkarbidepitaxisidor


Som en professionell tillverkare och leverantör av teknisk service i Kina har vi vår egen fabrik. Oavsett om du behöver skräddarsydda tjänster för att möta de specifika behoven i din region eller vill köpa avancerad och hållbar teknisk service tillverkad i Kina, kan dulämna oss ett meddelande.

View as  
 
CVD SiC Coating Grafit Delar Rengöring Service

CVD SiC Coating Grafit Delar Rengöring Service

VETEK Professional Cleaning Service för CVD SiC Coated Graphite Parts är en specialiserad teknisk tjänst designad för Aixtron / Veeco MOCVD-utrustningssusceptorer och grafitkomponenter som används i GaN / AlN / AlGaN epitaxiella processer. Vår proprietära rengöringsprocess eliminerar grundligt ytminneseffekten, återställer ett stabilt gasflöde i reaktorn och skyddar strikt 100 µm CVD SiC-beläggningen med absolut noll tjockleksförlust och noll metallrester.
Stor storlek motståndsvärmande SiC kristalltillväxtugn

Stor storlek motståndsvärmande SiC kristalltillväxtugn

Tillväxt av kiselkarbidkristaller är en kärnprocess vid tillverkning av högpresterande halvledarenheter. Stabiliteten, precisionen och kompatibiliteten hos utrustning för kristalltillväxt avgör direkt kvaliteten och utbytet av kiselkarbidgöt. Baserat på egenskaperna hos Physical Vapor Transport (PVT) teknologi, har Veteksemi utvecklat en motståndsvärmeugn för tillväxt av kiselkarbidkristaller, vilket möjliggör stabil tillväxt av 6-tums, 8-tums och 12-tums kiselkarbidkristaller med full kompatibilitet med ledande, halvisolerande materialsystem och N-material. Genom exakt kontroll av temperatur, tryck och effekt reducerar den effektivt kristalldefekter som EPD (Etch Pit Density) och BPD (Basal Plane Dislocation), samtidigt som den har låg energiförbrukning och en kompakt design för att möta de höga standarderna för industriell storskalig produktion.
Som en professionell Teknisk service tillverkare och leverantör i Kina har vi vår egen fabrik. Oavsett om du behöver anpassade tjänster för att möta de specifika behoven i din region eller vill köpa avancerade och hållbara Teknisk service tillverkade i Kina kan du lämna ett meddelande till oss.
X
Vi använder cookies för att ge dig en bättre webbupplevelse, analysera webbplatstrafik och anpassa innehåll. Genom att använda denna sida godkänner du vår användning av cookies. Sekretesspolicy
AvvisaAcceptera