Kiselnitrid

1. Utmärkt kemisk stabilitet

Kiselnitridkeramik har utmärkt kemisk stabilitet och tål en mängd starka syror, alkalier och frätande gaser. I halvledartillverkningsprocessen behöver ofta hantera frätande kemikalier, kan kiselnitridkeramik ge långsiktig stabil prestationsgaranti.

2. Utmärkta mekaniska egenskaper

Kiselnitridkeramik har hög hårdhet, utmärkt tryckhållfasthet och slitmotstånd, kan motstå mekanisk stress och ytslitage, inte lätt att deformation eller brista. Denna mekaniska egenskap gör den mycket lämplig som ett material för strukturella och processdelar i halvledarutrustning.

3. Högtemperaturstabilitet

Kiselnitridkeramik kan upprätthålla stabilitet i högtemperaturmiljöer, inte lätt att mjukgöra eller smälta, och tål högtemperaturbearbetning och hantering i halvledarprocessen. Detta gör det möjligt att användas vid tillverkning av hög temperaturprocessutrustning Nyckelkomponenter, såsom gripare, reaktionskammarkomponenter och så vidare.

4. Utmärkta isolerande egenskaper

Isolerande egenskaper är kritiska vid tillverkning av halvledaranordningar. Kiselnitridkeramik har goda isolerande egenskaper, som effektivt kan isolera och skydda kretskomponenter från nuvarande läckage eller elektromagnetisk störning, vilket hjälper till att förbättra enhetens stabilitet och tillförlitlighet.

5. Termisk konduktivitet och värmeledningsförmåga

Kiselnitridkeramik har en hög värmeledningsförmåga, kan effektivt genomföra och sprida värmen som genereras av enheten, vilket hjälper till att upprätthålla temperaturstabiliteten för enheten i driftsprocessen. Detta är avgörande för högpresterande drift av halvledarenheter.

1. Elektrostatiska chuckar och etsningskammarkomponenter

Kiselnitridkeramik används ofta som material för elektrostatiska chuckar och etsningskammarkomponenter i halvledartillverkning på grund av deras utmärkta kemiska stabilitet och hög temperaturbeständighet. Elektrostatiska chuckar används för att fixa och stabilisera skivor eller underlag, medan etsningskammarkomponenter används för att motstå frätande gaser och högtemperaturmiljöer.

2. Gasfördelningsplattor och reflektorer

Kiselnitridkeramik används också för tillverkning av halvledarutrustning i gasfördelningsplattorna och reflektorer. Gasfördelningsplattor används för att jämnt distribuera reaktiva eller skyddande gaser i reaktionskammaren, medan reflektorer används för att optimera distributionen och reflektionen av ljus i reaktionskammaren för att förbättra reaktionseffektiviteten och enhetligheten.

3. innehavare och termiska komponenter

Kiselnitridkeramik används ofta som innehavare och termiska hanteringskomponenter inom tillverkningsutrustning för halvledar. Dessa komponenter måste ha god mekanisk styrka, slitmotstånd och värmeledningsförmåga för att säkerställa stabil utrustning och enhetsbehandlingsnoggrannhet.

4. Kemisk mekanisk polering (CMP) -kuddar

Kiselnitridkeramik används ofta som ett PAD -material i processen för kemisk mekanisk polering (CMP). Den har utmärkt planhet och slitmotstånd och kan ge stabilt stöd under poleringsprocessen för att säkerställa planheten och precisionen hos halvledarens skivytor.