Rån

Wafer Substratär en wafer gjord av halvledar enkristallmaterial. Substratet kan direkt gå in i wafertillverkningsprocessen för att producera halvledaranordningar, eller så kan det bearbetas genom epitaxiella processer för att producera epitaxiella wafers.

Wafer Substrat, som den grundläggande stödstrukturen för halvledarenheter, påverkar direkt enheternas prestanda och stabilitet. Som "grunden" för tillverkning av halvledarenheter måste en serie tillverkningsprocesser som tunnfilmstillväxt och litografi utföras på substratet.

Sammanfattning av substrattyper:

 ●Enkristall silikonwafer: för närvarande det vanligaste substratmaterialet, allmänt använt vid tillverkning av integrerade kretsar (IC), mikroprocessorer, minnen, MEMS-enheter, kraftenheter, etc.;

 ●SOI-substrat: används för högpresterande, lågeffekts integrerade kretsar, såsom högfrekventa analoga och digitala kretsar, RF-enheter och strömhanteringschips;

 ●Sammansatta halvledarsubstrat: Galliumarsenidsubstrat (GaAs): mikrovågs- ​​och millimetervågskommunikationsenheter etc. Galliumnitridsubstrat (GaN): används för RF-effektförstärkare, HEMT, etc.Kiselkarbidsubstrat (SiC): används för elfordon, kraftomvandlare och andra kraftenheter Indiumfosfidsubstrat (InP): används för lasrar, fotodetektorer, etc.;

 ●Safir substrat: används för LED-tillverkning, RFIC (radiofrekvens integrerad krets), etc.;

Vetek Semiconductor är en professionell leverantör av SiC-substrat och SOI-substrat i Kina. Vår4H halvisolerande typ SiC-substratoch4H Halvisolerande typ SiC-substratanvänds i stor utsträckning i nyckelkomponenter i halvledartillverkningsutrustning. 

Vetek Semiconductor har åtagit sig att tillhandahålla avancerade och anpassningsbara Wafer Substrate-produkter och tekniska lösningar med olika specifikationer för halvledarindustrin. Vi ser verkligen fram emot att bli din leverantör i Kina.