ICP/PSS Etsningsprocess

VeTek Semiconductor ICPPSS (Inductively Coupled Plasma Photoresist Stripping) Etsningsprocess Wafer Carrier är speciellt utformad för att möta de krävande kraven i halvledarindustrins etsningsprocesser. Med sina avancerade funktioner säkerställer den optimal prestanda, effektivitet och tillförlitlighet genom hela etsningsprocessen.

Fördelen med VeTek Semiconductor ICP/PSS Etching Process Susveptors:

Förbättrad kemisk kompatibilitet: Waferbäraren är konstruerad med material som uppvisar utmärkt kemisk kompatibilitet med etsningsprocessens kemi. Detta säkerställer kompatibilitet med ett brett utbud av etsmedel, resist strippers och rengöringslösningar, vilket minimerar risken för kemiska reaktioner eller kontaminering.

Hög temperaturbeständighet: Waferbäraren är designad för att motstå höga temperaturer som uppstår under etsningsprocessen. Den bibehåller sin strukturella integritet och mekaniska styrka och förhindrar deformation eller skador även under extrema termiska förhållanden.

Överlägsen etsenhet: Bäraren har en exakt konstruerad design som främjar jämn fördelning av etsmedel och gaser över waferytan. Detta resulterar i konsekventa etshastigheter och högkvalitativa, enhetliga mönster, väsentligt för att uppnå exakta och tillförlitliga etsresultat.

Utmärkt waferstabilitet: Bäraren innehåller en säker waferhållningsmekanism som säkerställer stabil positionering och förhindrar waferrörelse eller glidning under etsningsprocessen. Detta garanterar exakta och repeterbara etsmönster, minimerar defekter och avkastningsförluster.

Renrumskompatibilitet: Waferbäraren är designad för att uppfylla strikta renrumsstandarder. Den har låg partikelgenerering och utmärkt renlighet, vilket förhindrar all partikelkontamination som kan äventyra kvaliteten och utbytet av etsningsprocessen. Föroreningen är under 5 ppm.

Robust och hållbar konstruktion: Bäraren är konstruerad med högkvalitativa material kända för sin hållbarhet och långa livslängd. Den tål upprepad användning och rigorösa rengöringsprocesser utan att kompromissa med dess prestanda eller strukturella integritet.

Anpassningsbar design: Vi erbjuder anpassningsbara alternativ för att möta specifika kundkrav. Bäraren kan skräddarsys för att rymma olika waferstorlekar, tjocklekar och processspecifikationer, vilket säkerställer kompatibilitet med olika etsningsutrustningar och processer.

Upplev tillförlitligheten och prestandan hos vår ICP/PSS Etching Process Wafer Carrier, designad för att optimera etsningsprocessen i halvledarindustrin. Dess förbättrade kemiska kompatibilitet, höga temperaturbeständighet, överlägsna etsningslikformighet, utmärkta waferstabilitet, renrumskompatibilitet, robusta konstruktion och anpassningsbara design gör den till det perfekta valet för dina etsningsapplikationer.

PSS Etsplåt ICP Etsningsplatta ICP Etching Susceptor