Silikonkarbidbeläggning

CVD SIC-belagda grafitduschhuvud från Veteksemicon är en högpresterande komponent som är speciellt utformad för halvledarens kemiska ångavlagringsprocesser (CVD). Tillverkad av grafit med hög renhet och skyddad med en kemisk ångavlagring (CVD) kiselkarbid (SIC) beläggning, ger detta duschhuvud enastående hållbarhet, termisk stabilitet och resistens mot frätande processgaser. Ser fram emot ditt ytterligare samråd.

Silicon Carbide Coating Wafer Holder av Veteksemicon är konstruerad för precision och prestanda i avancerade halvledarprocesser såsom MOCVD, LPCVD och högtemperatur-glödgning. Med en enhetlig CVD-SIC-beläggning säkerställer denna skivahållare enastående värmeledningsförmåga, kemisk inerthet och mekanisk styrka-nödvändig för föroreningsfri, högavkastningsskivbehandling.

Veteksemicon SiC-ringar med hög renhet, speciellt utformad för halvledarets etsningsutrustning, har enastående korrosionsbeständighet och termisk stabilitet, vilket förbättrar skivutbytet avsevärt skiva

Som en ledande kinesisk tillverkare och leverantör av kiselkarbidbeläggningsprodukter spelar Veteksemicons SIC -belagda skivbärare för etsning en ofördelbar kärnroll i etsningsprocessen med dess utmärkta stabilitet med hög temperatur, enastående korrosionsbeständighet och hög värmeledningsförmåga.

Veteksemicons CVD SIC-belagda skivor Susceptor är en banbrytande lösning för halvledarens epitaxiala processer, vilket erbjuder ultralätt renhet (≤100ppb, ICP-E10-certifierade) och exceptionella termiska/kemiska stabilitet för kontamineringsresistent tillväxt av GaN, SIC och Silicon-baserade EPI-layers. Konstruerad med precision CVD -teknik stöder den 6 ”/8”/12 ”skivor, säkerställer minimal termisk stress och tål extrema temperaturer upp till 1600 ° C.

Vår SIC -belagda planetariska Susceptor är en kärnkomponent i den höga temperaturprocessen för halvledartillverkning. Dess design kombinerar grafitunderlag med kiselkarbidbeläggning för att uppnå omfattande optimering av termisk hanteringsprestanda, kemisk stabilitet och mekanisk styrka.