SIC -belagd skivbärare för etsning

Kärnansökan av SIC -belagd skivbärare för etsningsprocess

1. GAN FILM TILLVERKNING OCH ETSNING I LED -tillverkning

SIC -belagda bärare (såsom PSS -etsningsbärare) används för att stödja safirsubstrat (mönstrade safirsubstrat, PSS) i LED -produktion och utför kemisk ångavsättning (MOCVD) av galliumnitrid (GAN) -filmer vid höga temperaturer. Bäraren avlägsnas sedan genom en våt etsningsprocess för att bilda en ytmikrostruktur för att förbättra ljusekstraktionseffektiviteten.

Nyckelroll: Skivbäraren måste motstå temperaturer upp till 1600 ° C och kemisk korrosion i plasma -etsningsmiljön. Den höga renheten (99.99995%) och densitet för SIC -beläggningen förhindrar metallföroreningar och säkerställer GAN -filmens enhetlighet.

2. Halvledarplasma/torr etsningsprocess

IICP (induktiv kopplad plasma) etsning, SIC -belagda bärare uppnår enhetlig värmefördelning genom optimerad luftflödesdesign (såsom laminärt flödesläge), undvika föroreningsdiffusion och förbättra etsningsnoggrannheten. Till exempel kan Veteksemicons SIC-belagda ICP-etsningsbärare tåla en sublimeringstemperatur på 2700 ° C och är lämplig för högenergi plasmamiljöer.

3. Tillverkning av solcell och kraftanordning

SIC-bärare presterar bra i högtemperaturdiffusion och etsning av kiselskivor i det fotovoltaiska fältet. Deras låga termiska expansionskoefficient (4,5 × 10⁻⁶/k) minskar deformationen orsakad av termisk stress och förlänger livslängden.

Fysiska egenskaper och fördelar med SIC -belagd skivbärare för etsning

1. Tolerans mot extrema miljöer:

Hög temperaturstabilitet:CVD SIC -beläggningkan arbeta i 1600 ° C luft eller 2200 ° C vakuummiljö under lång tid, vilket är mycket högre än traditionella kvarts- eller grafitbärare.

Korrosionsbeständighet: Sic har utmärkt resistens mot syror, alkalier, salter och organiska lösningsmedel och är lämplig för halvledarproduktionslinjer med ofta kemisk rengöring.

2. Termiska och mekaniska egenskaper:

Hög värmeledningsförmåga (300 W/MK): Snabb värmeavledning minskar termiska gradienter, säkerställer skivtemperaturens enhetlighet och undviker avvikelse av filmtjocklek.

Hög mekanisk styrka: Böjningsstyrka når 415 MPa (rumstemperatur), och den upprätthåller fortfarande mer än 90% styrka vid hög temperatur, och undviker bärande sprickor eller delaminering.

Ytfinish: SSIC (tryck sintrat kiselkarbid) har låg ytråhet (<0,1 um), vilket minskar partikelföroreningen och förbättrar skivutbytet.

3. Materialmatchande optimering:

Låg värmeutvidgningsskillnad mellan grafitunderlag och SIC -beläggning: Genom att justera beläggningsprocessen (såsom gradientavsättning) reduceras gränssnittsspänningen och beläggningen förhindras från skalning.

Hög renhet och låga defekter: CVD -processen säkerställer beläggningsrenheten> 99.9999%, vilket undviker metalljonföroreningar av känsliga processer (såsom SIC -kraftanordningstillverkning).

Sedanc Fysiska egenskaper hos CVD SIC -beläggning

CVD SIC -beläggningsfilmkristallstruktur

Vet Sexemicon Shops