Wafer chunk är ett verktyg för klämning av skivor i halvledarprocesser och används i stor utsträckning i PVD, CVD, ETCH och andra processer.Vetek Semiconductors waferchuck spelar en central roll i halvledarproduktion, vilket möjliggör snabb, högkvalitativ produktion. Med egen tillverkning, konkurrenskraftiga priser och robust FoU-stöd, utmärker Vetek Semiconductor sig i OEM/ODM-tjänster för precisionskomponenter. Ser fram emot din förfrågan.
Som den professionella tillverkaren vill Vetek Semiconductor ge dig SIC -belagd skiva Chuck.
Vetek Semiconductor har ISO9001-certifiering som täcker utveckling och tillverkning av ett komplett utbud av komponenter för halvledarenheter. Dessa komponenter inkluderar processutrustning, deponeringsutrustning, inspektionsutrustning, halvledarwaferchuckar, flödesmätare, kammare, tryckhärdningssystem såsom plattor, block, axlar, rullar, etc. 5. Som partner till Aixtron, Veeco (världens tio bästa utrustningstillverkare), tillhandahåller Vetek Semiconductor halvledarprecisionskomponenter till ledande tillverkare av halvledarutrustning i USA, världens största halvledarmarknaden.
Vetek Semiconductors waferchuck är en fasad komponent av slutinspektionsutrustning för wafer i processutrustning för tillverkning av halvledarwafer. Genom det systematiska kvalitetskontroll- och kontrollsystemet uppnås snabb, hög kvalitet och konkurrenskraftig produktion. Kostnadsoptimering uppnås genom strategisk integration av vår produktionsinfrastruktur och partnerskap med inhemska och internationella specialisttillverkare för material, komponenter, moduler och utrustning.
Vetek Semiconductors halvledarwaferchuck används i waferdetekteringsutrustning, med hjälp av högprecisionsbearbetningsmetoder och designteknik för att säkerställa att vakuumwaferchuckens planhet är under 3 μm. Detta noggranna tillvägagångssätt garanterar utmärkt prestanda och noggrannhet vid waferinspektion.
Vetek Semiconductor Core Advantage:
1. Tillverkning i vår egen fabrik
2. Direkt produktion/distribution till ärliga priser.
3. Det interna FoU -centret ger kvalitetsförbättring och utvecklingsstöd och deltar aktivt i företag och nationella forskningsstödprojekt för delar lokalisering.
4. OEM / ODM
Grundläggande fysiska egenskaper hos CVD SIC -beläggning:
Grundläggande fysiska egenskaper hos CVD SIC -beläggning
Egendom
Typiskt värde
Kristallstruktur
FCC ß -faspolykristallin, främst (111) orienterad
Densitet
3,21 g/cm³
Hårdhet
2500 Vickers hårdhet (500 g belastning)
Kornstorlek
2~10μm
Kemisk renhet
99.99995%
Värmekapacitet
640 J · kg-1· K-1
Sublimeringstemperatur
2700 ℃
Böjhållfasthet
415 MPa RT 4-punkts
Young's Modulus
430 GPA 4PT BEND, 1300 ℃
Termisk konduktivitet
300W · m-1· K-1
Termisk expansion (CTE)
4,5 × 10-6K-1
Produktionsbutiker:
Översikt över halvledarchipets epitaxiindustrikedja:
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Vi använder cookies för att ge dig en bättre webbupplevelse, analysera webbplatstrafik och anpassa innehåll. Genom att använda denna sida godkänner du vår användning av cookies. Sekretesspolicy