Grafit roterande stöd

Wafer Susceptor är ett måste för epitaxial tillväxtprocess. Under epitaxial tillväxt placeras skivsubstratet i Susceptor.vetek halvledarens högrenade grafitroterande signifikanter används i materialbehandlingsutrustning under hög temperatur och höga vakuummiljöer. I den epitaxiella tillväxten av galliumnitrid (MOCVD -process) spelar de en stödjande roll i rotationen av underlaget. Vetek Semiconductors roterande grafit Susceptor har följande fördelar:

● Hög renhet: Föroreningsinnehållet i grafit med hög renhet roterande susceptorer är under 5 ppm. Denna nivå av renhetsgrafit kan undvika frisättning av föroreningar vid höga temperaturer för att säkerställa de avsättningsprocessens renhet. Därför krävs ingen beläggning för att uppfylla arbetskraven.

Grafit med hög renhet

● Utmärkta termiska egenskaper: Grafit med hög renhet har utmärkt värmeledningsförmåga, och dess värmeledningsförmåga är mycket högre än andra material. Den termiska expansionskoefficienten är liten och kan upprätthålla stabil prestanda när man upplever temperaturförändringar.

● Bra mekaniska egenskaper: Grafit med hög renhet har god slitmotstånd och seghet, som kan uppfylla de komplexa kraven i CVD-processen.

● Utmärkt konduktivitet: Konduktiviteten är hundra gånger högre än för allmänna icke-metalliska mineraler.

● Kemisk stabilitet: Det kan motstå korrosion från syror, alkalier och organiska lösningsmedel

Som en ledande tillverkare och leverantör av grafit med hög renhet som roterande Susceptor i Kina levererar dessutom Vetek Semiconductor också högkvalitativSIC -belagd grafit -susceptor för MOCVD, Sic belagd fat susceptor, TAC belagd grafitstödochMOCVD SIC -beläggningssusceptor.Vetek Semiconductor har åtagit sig att tillhandahålla avancerad teknik och produktlösningar för halvledarindustrin och stöder också anpassade tjänster. Vi ser uppriktigt fram emot att bli din långsiktiga partner i Kina.

Det halvledareGrafit roterande Susceptor Product Shops: