Trepetallgrafiterge

Vetek Semiconductors tre-petalgrafit Crucible designad för tillväxtprocessen av monokristallint kisel med CZ-metod, trepetallstrukturen grafit Crucible är tillverkad av isostatisk grafitmaterial med hög renhet. Genom den innovativa trepetallstrukturen kan den traditionella integrerade degeln effektivt lösa demonteringssvårigheter, termisk stresskoncentration och andra branschsmärtpunkter och används allmänt i fotovoltaiska kiselskivor, halvledarskivor och andra avancerade tillverkningsfält.

Kärnprocesshöjdpunkter

1. Ultra-precision grafitbearbetningsteknologi

Materialrenhet: Användningen av isostatisk pressad grafitunderlag med askinnehåll <5 ppm vid behov och i allmänhet ＜ 10 ppm för att säkerställa nollföroreningar i kiselmältningsprocessen

Strukturell förstärkning: Efter att ha grafitiserats vid 2200 ℃ är böjningsstyrkan ≥45MPa, och koefficienten för värmeutvidgning är ≤4,6 × 10⁻⁶/℃

Ytbehandling: 10-15 um pyrolytisk kolbeläggning avsätts genom CVD-process för att förbättra oxidationsmotståndet (viktminskning <1,5%/100h@1600℃).

2. Innovativ design av trepetallstruktur

Modulär montering: 120 ° Equipartition tre-lobstruktur, installation och demonteringseffektivitet ökade med 300%

Stressutgivningsdesign: Den delade strukturen sprider effektivt den termiska expansionsspänningen och förlänger livslängden till mer än 200 cykler

Precision Fit: Klyftan mellan ventilerna är <0,1 mm, och keramiskt lim med hög temperatur säkerställer nollläckage i kiselmältningsprocessen

3. Anpassade behandlingstjänster

Support φ16 "-R -40" Anpassning i full storlek, väggtjocklekstoleransstyrning ± 0,5 mm

Gradientdensitetsstrukturen 1,83 g/cm³ kan väljas för att optimera termisk fältfördelning

Ge mervärde processer såsom bornitridkompositbeläggning och förstärkning av rheniummetallkant

Typiska applikationsscenario

Fotovoltaisk industri

Monokristallin kiselstång Kontinuerlig ritning: Lämplig för G12 Silikonskivproduktion, stöd ≥500 kg Lastkapacitet

N-typ topcon batteri: ultralåg föroreningsmigrering garanterar minoritetsliv> 2ms

Uppgradering av termisk fält: Kompatibel med vanliga modeller för enkelkristall (PVI, Ferrotec, etc.)

Halvledarstillverkning

8-12 tum halvledarkvalitetsmonokristallin kiseltillväxt: uppfylla semi-standardklass-10 renhetskrav

Special dopade kristaller: Exakt kontroll av bor/fosforfördelning enhetlighet

Tredje generationens halvledare: Kompatibel SIC -enkristallberedningsprocess

Vetenskaplig forskningsområde

Forskning och utveckling av ultratunna kiselskivor för rymdsolceller

Tillväxttest av nya kristallmaterial (Germanium, Gallium Arsenide)

Begränsningsparameterforskning (3000 ℃ Ultrahög temperatursmältningsexperiment)

Kvalitetssäkringssystem

ISO 9001/14001 Dual System Certification

Tillhandahålla materialtestrapport för kunder (XRD -kompositionsanalys, SEM -mikrostruktur)

Hela processspårbarhetssystemet (lasermarkering + blockchain lagring)