Wafer Carrier för VEECO MOCVD (LED Epitaxy)

Produktegenskaper:

1. Högren grafitbas med ett tätt CVD SiC-skikt
2. Bra termisk enhetlighet för stabil LED-epitaxi
3. Tål NH₃, HCl och andra frätande gaser som används i processen
4. Låg partikelavgivning och lång livslängd
5. Fickdesigner kan anpassas för olika waferstorlekar och reaktorplattformar
6. Fungerar bra för långvarig MOCVD-drift vid hög temperatur

Applikationer:
Dessa waferbärare används i stor utsträckning i LED och sammansatt halvledarepitaxi, inklusive:

• GaN LED-epitaxi
• Blågrön LED-epitaxi
• Djup UV LED-tillväxt
• Si-baserad GaN epitaxi
• Allmän tillverkning av sammansatta halvledare

Anpassade bärarlösningar passar flera LED MOCVD-plattformar, såsom:

• VEECO K465i
• VEECO K700
• VEECO K868
• Aixtron G4/G5
• A7/Unimax

Tekniska fördelar:

1. CVD SiC-beläggningteknik som ger dig bra densitet och renhet
2. Beläggningens tjockleksvariation hålls inom ±10 μm – hjälper termisk prestanda att hålla sig stabil
3. CNC-bearbetning ner till 3 μm precision för bra waferpassning och rotationsstabilitet
4. Beläggningen fäster väl och motstår sprickbildning efter upprepade högtemperatur-MOCVD-cykler
5. Klarar NH₃, HCl och andra tuffa epitaximiljöer utan problem
6. Låg partikelgenerering och ren yta för att stödja hög avkastningLED epitaxi
7. Kan belägga stora eller anpassade storlekar för olika reaktorplattformar och wafer-layouter
8. Lång erfarenhet avanpassade grafit- och SiC-belagda delarför LED och sammansatt halvledarepitaxi

Vanliga frågor:
1. Vad gör en waferbärare iMOCVDLED-epitaxi?

S: Den håller och roterar wafers inuti MOCVD-reaktorn och hjälper till att hålla temperaturen stabil under epitaxiell tillväxt.

2. Varför använda SiC-belagda grafitwaferbärare för MOCVD?

A: DenCVD SiC-beläggningger bättre korrosionsbeständighet, termisk stabilitet och hållbarhet. Det hjälper också till att minska partikelkontamination i epitaxi vid hög temperatur.

3. Tillverkar Vetek Semiconductor skräddarsydda waferbärare?
A: Ja. Vi kan designa skräddarsydda bärare baserat på din reaktorplattform, waferstorlek, ficklayout och andra processbehov.