Sic tätningsdel

SIC -tätningsdel spelar en nyckelroll i halvledarbearbetning. Dess utmärkta materialegenskaper och pålitlig tätningseffekt förbättrar inte bara produktionseffektiviteten, utan säkerställer också produktkvalitet och säkerhet.

Huvudfördelar med kiselkarbidförseglingsdel:

Utmärkt korrosionsmotstånd: Bland avancerade keramiska material kan Veteksemi Sic tätningsdel ha den bästa korrosionsbeständigheten i sura och alkaliska miljöer. Denna oöverträffade korrosionsbeständighet säkerställer att SIC -tätningsdel kan fungera effektivt i kemiskt frätande miljöer, vilket gör det till ett oundgängligt material i branscher som ofta utsätts för frätande ämnen.

Lätt och stark: Kiselkarbid har en densitet på cirka 3,2 g/cm³, och trots att det är ett lätt keramiskt material är styrkan hos kiselkarbid jämförbar med diamanten. Denna kombination av lätthet och styrka förbättrar prestandan hos mekaniska komponenter, vilket ökar effektiviteten och minskar slitage i krävande industriella tillämpningar. Den lätta naturen hos SIC -tätningsdel underlättar också enklare hantering och installation av komponenterna.

Extremt hög hårdhet och hög värmeledningsförmåga: Kiselkarbid har en Mohs -hårdhet på 9 ~ 10, jämförbar med diamant. Denna egenskap, i kombination med hög värmeledningsförmåga (ungefär 120-200 W/m · K vid rumstemperatur), gör det möjligt för Sic-tätningar att fungera under förhållanden som skulle skada underlägsna material. SIC: s utmärkta mekaniska egenskaper upprätthålls vid temperaturer upp till 1600 ° C, vilket säkerställer att SIC-tätningar förblir robusta och tillförlitliga även i högtemperaturapplikationer.

Hög hårdhet och slitmotstånd: Kiselkarbid kännetecknas av starka kovalenta bindningar inom dess kristallgitter, vilket ger den hög hårdhet och en betydande elastisk modul. Dessa egenskaper översätter till utmärkt slitmotstånd, vilket minskar sannolikheten för böjning eller deformation även efter långvarig användning. Detta gör SIC till ett utmärkt val för SIC -tätningsdelar som utsätts för kontinuerlig mekanisk stress och slipande förhållanden.

Skyddande kiseldioxidskiktbildning: När den utsätts för temperaturer på cirka 1300 ° C i en syre-rik miljö bildar kiselkarbid en skyddande kiseldioxid (SIO₂) lager på ytan. Detta skikt fungerar som en barriär och förhindrar ytterligare oxidation och kemiska interaktioner. Som SIO₂Skiktet förtjockas, det skyddar ytterligare den underliggande SIC från andra reaktioner. Denna självbegränsande oxidationsprocess ger SIC utmärkt kemisk resistens och stabilitet, vilket gör SIC-tätningar lämpliga för användning i reaktiva och högtemperaturmiljöer.

Mångsidighet i högpresterande applikationer:Silicon Carbides unika egenskaper gör det mångsidigt och effektivt i en mängd högpresterande applikationer. Från mekaniska tätningar och lager till värmeväxlare och turbinkomponenter, SIC -tätningsdelens förmåga att motstå extrema förhållanden och upprätthålla dess integritet gör det till det material som valts i avancerade tekniska lösningar.

Vetek Semiconductor har åtagit sig att tillhandahålla avancerad teknik och produktlösningar för halvledarindustrin. Dessutom inkluderar våra SIC -produkter ocksåKiselkarbidbeläggning, Kiselkarbid keramikochSic Epitaxy ProcessProdukter. Välkommen din ytterligare konsultation.

SEM -data från CVD Sic Film Crystal Structure：