Sic duschhuvud

Vetek Semiconductor tillhandahåller avancerad SIC -duschhuvud till halvledarindustrin. Kiselkarbidmaterial har en unik kombination av utmärkta termiska, elektriska och kemiska egenskaper, vilket gör dem idealiska för applikationer i halvledarindustrin där högpresterande material krävs. Vetek Semiconductor har länge samlat erfarenhet av CVD -solid SIC -teknik. Vetek Semiconductors Revolutionary Technology möjliggör produktion av SIC-duschhuvud, ett ultrahög renhetssilikonkarbidmaterial som skapats genom processen med kemisk ångavsättning.

SIC -duschhuvudet är en avgörande komponent inom halvledartillverkning, speciellt utformad för MOCVD -system, kiselpitaxi ochSicepitaxprocesser. Gjord av robustSolid Silicon Carbide (SIC), Denna komponent kan motstå de extrema förhållandena för plasmabearbetning och högtemperaturapplikationer.

Kiselkarbid (sic)är känd för sin höga värmeledningsförmåga, kemisk korrosionsbeständighet och exceptionell mekanisk styrka, vilket gör det till ett idealiskt material för bulk -SIC -komponenter som SIC -duschhuvudet. Gasduschhuvudet säkerställer till och med fördelning av processgaser över skivytan, vilket är viktigt för att producera epitaxiella lager av hög kvalitet. Fokusringar och kantringar, ofta tillverkade av CVD-SIC, upprätthåller enhetlig plasmafördelning och skyddar kammaren från förorening, vilket förbättrar effektiviteten och utbytet av epitaxial tillväxt.

Med sin exakta gasflödeskontroll och enastående materialegenskaper är SIC -duschhuvudet en viktig komponent i modern halvledarbearbetning, vilket stödjer avancerade tillämpningar i kiselpitaxi och SIC -epitaxi.

Vetek Semiconductor erbjuder en låg resistivitet sintrad kiselkarbid halvledare duschhuvud. Vi har förmågan att anpassa ingenjör och leveransavancerade keramiska materialanvänder en mängd unika funktioner.