Halvledarkeramiskt munstycke

Halvledar keramisk munstycke spelar en viktig roll iHDP-CVD-processanvänds för att exakt kontrollera gasflödet och säkerställafilmavsättning av hög kvalitet. Keramisk munstyckspray är exakt konstruerad för att säkerställa konsekventa och kontrollerbara gasflödeshastigheter, vilket minimerar möjlig turbulens när gasen kommer in i reaktionskammaren.

Tekniska specifikationer:

1.Materialkomposition:

VeTeK Semiconductor Keramiska sandblästringsmunstycken är vanligtvis gjorda av halvledarkeramik som aluminiumoxid (Al2O3),kiselkarbid (SiC)eller zirkoniumoxid (ZrO2), har dessa material utmärkta egenskaper:

    • Hög termisk stabilitet (tål temperaturer över 1000 ℃)

    • motståndskraft mot korrosion av reaktiva gaser som används iCVD-processer(som silan, ammoniak)

    • Resistens mot kontinuerlig exponering av plasma.

2. Strukturell design:

    • Mynningsstorlek: Mynningen på det keramiska halvledarmunstycket är vetenskapligt utformat för att möjliggöra exakt kontroll av gasflödet, vilket i sin tur påverkar likformigheten och tjockleken på filmen.

    • Vinklar och geometrier: exakt utformade för att säkerställa enhetlig gasfördelning över underlaget, vilket minimerar defekter i det avsatta skiktet.

I halvledarindustrin spelar halvledarens keramiska sprängmunstycke en nyckelroll främst i HDP-CVD-processen. De används också för att sätta in tunna filmer för produktion av mikroelektronik, vilket säkerställer högkvalitativa ytbeläggningar som är enhetliga och fria från föroreningar.

VeTeK Semiconductor Keramiska munstycken butiker: