Vertikal ugn Sic -belagd ring är en komponent speciellt utformad för vertikal ugn. Vetek Semiconductor kan göra det bästa för dig när det gäller både material och tillverkningsprocesser. Som en ledande tillverkare och leverantör av Vertical Furnace SIC -belagd ring i Kina är Vetek Semiconductor säker på att vi kan ge dig de bästa produkterna och tjänsterna.
I vertikala ugnar är användningen av SiC-belagda ringar en vanlig lösning som främst används i högtemperaturvärmebehandlingsprocesser avhalvledarskivor. Vertikala ugnsiska belagda ringar är högpresterande, högtemperaturresistenta komponenter som används för att stödja eller skydda skivor för att säkerställa processens stabilitet och tillförlitlighet.
Funktionerna för vertikal ugn Sic -belagd ring
● Funktioner
Stödroll. Används för att stödja wafers för att säkerställa deras stabilitet och exakta placering i högtemperaturugnar.
● Korrosionsskydd
Förhindra frätande gaser eller kemikalier från att korrodera basmaterialet.
● Minska föroreningar
SiC-beläggning med hög renhet kan effektivt förhindra partikelavfall och föroreningar för att säkerställa processrenhet.
● Hög temperaturbeständighet
Bibehåll utmärkta mekaniska egenskaper och dimensionsstabilitet i högtemperaturmiljöer (vanligtvis över 1000°C).
Funktionerna i vertikal ugn Sic -belagd ring
● Hög hårdhet och styrka
SiC-material har utmärkt mekanisk hållfasthet och tål höga temperaturpåkänningar i ugnen.
● Bra termisk stabilitet
SIC: s höga värmeledningsförmåga och låga termiska expansionskoefficient hjälper till att minska termisk stress.
● Stark kemisk stabilitet
SiC-beläggningar kan motstå korrosion i oxiderande, sura eller alkaliska miljöer.
● Låg partikelförorening
Den släta ytan minskar möjligheten till partikelgenerering, vilket är särskilt lämpligt för den ultrarena miljön vid halvledartillverkning.
Används för diffusion, oxidation, glödgning och andra processer i vertikala ugnar för att stödja kiselskivor och förhindra partikelföroreningar under värmebehandling.
Tillverkningsmaterial och processer
● Substrat: Tillverkad av högkvalitativ SGL-grafit är kvaliteten garanterad.
● Beläggning: Kiselkarbidbeläggning appliceras på grafitytan med kemisk ångavsättning (CVD).
● Beläggningstjockleken är vanligtvis mellan 50~500μm, vilket justeras enligt användningskraven.
● Den kemiska ångavsättningen SIC -beläggning har högre renhet och densitet och bättre hållbarhet.
Välj lämpligtSiC-beläggningring enligt diametern på kiselskivan i ugnen och bärarens specifikationer. Vi kan anpassa det åt dig. Hög renhet, tät beläggning är mer hållbar och mindre förorenande. Byt ut i enlighet med frekvensen av användning och processkrav för att undvika föroreningar eller stödfel på grund av åldrande beläggning.
Som en professionell vertikal ugn SIC -belagd ringleverantör och tillverkare i Kina har Vetek Semiconductor länge varit engagerad i att tillhandahålla avancerad vertikal ugnsteknik och produktlösningar för halvledarindustrin. Vi ser uppriktigt fram emot att bli din långsiktiga partner i Kina.
CVD SIC FILM KRISTALSTRUKTUR
Grundläggande fysiska egenskaper hos CVD SIC -beläggning
Grundläggande fysikaliska egenskaper hos CVD SiC-beläggning
Egendom
Typiskt värde
Kristallstruktur
FCC β-fas polykristallin, huvudsakligen (111) orienterad
Sic beläggningstäthet
3,21 g/cm³
SiC-beläggningshårdhet
2500 Vickers hårdhet (500 g belastning)
Kornstorlek
2~10μm
Kemisk renhet
99,99995 %
Värmekapacitet
640 J · kg-1· K-1
Sublimeringstemperatur
2700 ℃
Böjningsstyrka
415 MPA RT 4-punkt
Youngs modul
430 GPA 4PT BEND, 1300 ℃
Värmeledningsförmåga
300W·m-1· K-1
Termisk expansion (CTE)
4,5 × 10-6K-1
VeTek SemiconductorVertikal ugn Sic -belagda ringbutiker:
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Vi använder cookies för att ge dig en bättre webbupplevelse, analysera webbplatstrafik och anpassa innehåll. Genom att använda denna sida godkänner du vår användning av cookies. Sekretesspolicy