Produkter

Silikonkarbidbeläggning

VeTek Semiconductor specialiserar sig på produktion av ultrarena Silicon Carbide Coating-produkter, dessa beläggningar är designade för att appliceras på renad grafit, keramik och eldfasta metallkomponenter.


Våra beläggningar med hög renhet är främst avsedda för användning inom halvledar- och elektronikindustrin. De fungerar som ett skyddande lager för waferbärare, susceptorer och värmeelement, och skyddar dem från korrosiva och reaktiva miljöer som påträffas i processer som MOCVD och EPI. Dessa processer är integrerade i waferbearbetning och tillverkning av enheter. Dessutom är våra beläggningar väl lämpade för tillämpningar i vakuumugnar och provuppvärmning, där högvakuum, reaktiva och syremiljöer förekommer.


På VeTek Semiconductor erbjuder vi en heltäckande lösning med våra avancerade maskinverkstadsmöjligheter. Detta gör det möjligt för oss att tillverka baskomponenterna med grafit, keramik eller eldfasta metaller och applicera SiC- eller TaC-keramiska beläggningar internt. Vi tillhandahåller också beläggningstjänster för kundlevererade delar, vilket säkerställer flexibilitet för att möta olika behov.


Våra kiselkarbidbeläggningsprodukter används ofta i Si-epitaxi, SiC-epitaxi, MOCVD-system, RTP/RTA-process, etsningsprocess, ICP/PSS-etsningsprocess, process av olika LED-typer, inklusive blå och grön LED, UV LED och djup UV LED mm, som är anpassad till utrustning från LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI och så vidare.


Reaktordelar vi kan göra:


Aixtron G5 MOCVD Susceptors


Kiselkarbidbeläggning flera unika fördelar:

Silicon Carbide Coating several unique advantages



VeTek Semiconductor Silicon Carbide Coating Parameter

Grundläggande fysikaliska egenskaper för CVD SiC-beläggning
Egendom Typiskt värde
Kristallstruktur FCC β-fas polykristallin, huvudsakligen (111) orienterad
SiC-beläggning Densitet 3,21 g/cm³
SiC-beläggningHårdhet 2500 Vickers hårdhet(500g belastning)
kornstorlek 2~10μm
Kemisk renhet 99,99995 %
Värmekapacitet 640 J·kg-1·K-1
Sublimeringstemperatur 2700 ℃
Böjningsstyrka 415 MPa RT 4-punkts
Youngs modul 430 Gpa 4pt böj, 1300℃
Värmeledningsförmåga 300W·m-1·K-1
Termisk expansion (CTE) 4,5×10-6K-1

CVD SIC FILM KRISTALSTRUKTUR

CVD SIC FILM CRYSTAL STRUCTURE



View as  
 
Kemisk ångavsättningsprocess fast sic kantring

Kemisk ångavsättningsprocess fast sic kantring

Vetek Semiconductor har alltid varit engagerad i forskning och utveckling och tillverkning av avancerade halvledarmaterial. Idag har Vetek Semiconductor gjort stora framsteg inom kemisk ångavlagringsprocess Solid Sic Edge Ring -produkter och kan ge kunderna mycket anpassade solida Sic Edge -ringar. Fasta sic kantringar ger bättre etsning enhetlighet och exakt skivpositionering när de används med en elektrostatisk chuck, vilket säkerställer konsekventa och tillförlitliga etsningsresultat. Ser fram emot din förfrågan och bli varandras långsiktiga partners.
Solid Sic Etsing Focusing Ring

Solid Sic Etsing Focusing Ring

Solid SiC -etsningsfokuseringsring är en av kärnkomponenterna i skivlig etsningsprocess, som spelar en roll för att fixa skivan, fokusera plasma och förbättra skivnings etsningens enhetlighet. Som den ledande SIC -fokuseringsringstillverkaren i Kina har Vetek Semiconductor avancerat teknik och mogen process och tillverkar solid SIC -etsning med fokuseringsring som helt uppfyller behoven hos slutkunder enligt kundkraven. Vi ser fram emot din förfrågan och blir varandras långsiktiga partners.
Som professionell Silikonkarbidbeläggning tillverkare och leverantör i Kina har vi vår egen fabrik. Oavsett om du behöver anpassade tjänster för att tillgodose de specifika behoven i din region eller vill köpa avancerad och hållbar Silikonkarbidbeläggning tillverkad i Kina, kan du lämna ett meddelande till oss.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept