SIC -belagd skivhållare

VEtek Semiconductors SIC -belagda skivhållare används vanligtvis för att fixa och stödja skivor under halvledarbearbetning. Det är en högpresterandeskivbärareAnvänds allmänt vid halvledartillverkning. Genom att belägga ett skikt av kiselkarbid (sic) på ytan avsubstrat, produkten kan effektivt förhindra att substratet korrosion och förbättra korrosionsbeständigheten och mekanisk styrka hos skivbäraren, vilket säkerställer stabilitets- och precisionskraven i bearbetningsprocessen.

SIC -belagd skivhållareanvänds vanligtvis för att fixa och stödja skivor under halvledarbearbetning. Det är en högpresterande skivbärare som används allmänt vid halvledartillverkning. Genom att belägga ett lager avkiselkarbid (sic)På ytan av underlaget kan produkten effektivt förhindra att underlaget korrosion och förbättra korrosionsbeständigheten och mekanisk styrkaWafer Carrier, säkerställa stabilitet och precisionskrav i behandlingsprocessen.

Kiselkarbid (SIC) har en smältpunkt på cirka 2 730 ° C och har utmärkt värmeledningsförmåga på cirka 120 - 180 W/m · k. Den här egenskapen kan snabbt sprida värme i högtemperaturprocesser och förhindra överhettning mellan skivan och transportören. Därför använder SIC -belagd skivahållare vanligtvis kiselkarbid (SIC) belagd grafit som underlag.

I kombination med den extremt höga hårdheten hos SIC (Vickers hårdhet på cirka 2500 HV) kan kiselkarbid (SIC) beläggning som avsatts av CVD -processen bilda en tät och stark skyddsbeläggning, vilket förbättrar den SIC -belagda skivhållarens slitbock.

Vetek Semiconductors SIC -belagda skivhållare är tillverkad av SIC -belagd grafit och är en oundgänglig nyckelkomponent i moderna halvledarens epitaxiprocesser. Den kombinerar smart den utmärkta värmeledningsförmågan hos grafit (värmeledningsförmåga är cirka 100-400 W/m · K vid rumstemperatur) och mekanisk styrka, och den utmärkta kemiska korrosionsbeständigheten och termisk stabilitet i kiselkarbid (smältpunkten för SIC är cirka 2 730 ° C), som perfekt uppfyller strängkraven för dagens högsta del av SIC.

Denna enskilda designinnehavare kan noggrant kontrolleraepitaxial processParametrar, som hjälper till att producera högpresterande halvledarenheter. Dess unika strukturella design säkerställer att skivan hanteras med mest omsorg och precision under hela processen och därmed säkerställer den utmärkta kvaliteten på det epitaxiella lagret och förbättrar prestandan för den slutliga halvledarprodukten.

Som Kinas ledandeSIC -belagdWafer Holdertillverkare och ledare, Vetek Semiconductor kan tillhandahålla anpassade produkter och tekniska tjänster enligt din utrustning och processkrav.Vi hoppas verkligen vara din långsiktiga partner i Kina.

SEM -data från CVD Sic Film Kristallstruktur

Grundläggande fysiska egenskaper hos CVD SIC -beläggning

Vetek Semiconductor SIC Coated Wafer Holder Productions Shops ：