Produkter
Högrent SiC-pulver för SiC-kristalltillväxt
  • Högrent SiC-pulver för SiC-kristalltillväxtHögrent SiC-pulver för SiC-kristalltillväxt
  • Högrent SiC-pulver för SiC-kristalltillväxtHögrent SiC-pulver för SiC-kristalltillväxt

Högrent SiC-pulver för SiC-kristalltillväxt

VeTek Semiconductor levererar förstklassigt högrent kiselkarbid (SiC)-pulver skräddarsytt specifikt för högavkastande SiC-kristalltillväxt (PVT-process), produktion av halvledarsubstrat och avancerad funktionell keramik. Bearbetat genom ultraren reningsteknologi ger vårt högrena SiC-råmaterial exceptionellt låga spårmetallnivåer, reproducerbar sublimeringsprestanda och mycket konsekvent batch-to-batch-kvalitet för att möta rigorösa krav på halvledartillverkning.

1. Nyckelfunktioner

· Höga renhetsnivåer:Renhetskapaciteten når upp till 99,9999 % (6N-klass).

· Ultralåga metalliska föroreningar:Minimerad spårmetallkontamination optimerad för tillväxt av SiC-kristaller.

· Full insyn:Fullständig GDMS (Glow Discharge Mass Spectrometry) testdata tillgänglig för varje batch.

· Stabil termisk prestanda:Mycket förutsägbart och enhetligt sublimeringsbeteende under PVT-tillväxtkörningar.

· Kontrollerad partikelstorleksfördelning:Granulometri övervakas noggrant för att bibehålla konsekvent packningsdensitet.

· Skräddarsydda formuleringar:Anpassade partikelstorlekar och distributionskurvor tillgängliga på begäran.

· Halvledarkvalitetsstandard:Strikt tillverkad under kvalitetsledningssystem av halvledarkvalitet.

       


2. Produktbilder


3. Tekniska specifikationer

Egendom
Typiskt värde
Material
Kiselkarbid (SiC)
Renhet
99,99 % – 99,9999 %
Renhetsgrad
4N – 6N+
Kristallstruktur
a-SiC
Partikelstorlek
Anpassningsbar (t.ex. mikro till grovt nät)
Föroreningsanalys
Fullständig GDMS-rapport tillhandahålls

4. Ansökningar

· PVT SiC-kristalltillväxt:Konduktiva och halvisolerande SiC-göt.

· Halvledarsubstrat:Wafer substrat & epitaxiell bearbetning råmaterial.

· High-End termiska komponenter:Avancerade keramiska komponenter och susceptorbeläggningar.

· FoU-applikationer:Nästa generations kraftelektronikforskning och högfrekventa enheter.


5. Varför välja VeTek Semiconductor?

· Proprietär rening:Avancerade reningstekniker som ger upp till 6N renhet för enkristalltillväxt.

· Strikt kvalitetskontroll:Dedikerad kvalitetssäkring med strikt föroreningskontroll av halvledarkvalitet.

· Anpassningsflexibilitet:Flexibel anpassad partikelstorlek för att passa olika PVT-ugnsdegelspecifikationer.

· Stabil försörjningskedja:Tillförlitlig leveranskapacitet som garanterar stabil långtidsleverans av massproduktion.

· Teknisk expertis:Komplett teknisk support skräddarsydd för dina specifika kristalltillväxtprocesser.


Hot Tags: SiC Crystal Growth, High Purity SiC-pulver, SiC Crystal Growth Powder, PVT SiC Crystal Growth, Semiconductor SiC-material, 6N High Purity SiC-pulver, High Purity Silicon Carbide, VeTek Semiconductor
Skicka förfrågan
Kontaktinformation
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
X
Vi använder cookies för att ge dig en bättre webbupplevelse, analysera webbplatstrafik och anpassa innehåll. Genom att använda denna sida godkänner du vår användning av cookies. Sekretesspolicy
AvvisaAcceptera