Hög renhet CVD SIC råmaterial

Handla semikonontorSiC -enkristalls råmaterial- CVD SiC -renhet med hög renhet. Denna produkt fyller det inhemska gapet och är också på den ledande nivån globalt och kommer att vara i en långsiktig ledande position i tävlingen. Traditionell kiselkarbid råvaror produceras genom reaktionen av kisel med hög renhet ochgrafit, som är höga kostnader, låg i renhet och liten i storlek. 

Vetek Semiconductors fluidiserade sängteknologi använder metyltriklorosilan för att generera kiselkarbid råvaror genom kemisk ångavsättning, och den huvudsakliga biprodukten är saltsyra. Saltsyra kan bilda salter genom att neutralisera med alkali och kommer inte att orsaka föroreningar i miljön. Samtidigt är metyltriklorosilan en allmänt använt industrigas med låga kostnader och breda källor, särskilt Kina är den viktigaste tillverkaren av metyltriklorosilan. Därför har Vetek Semiconductors höga renhet CVD SIC råmaterial internationell ledande konkurrenskraft när det gäller kostnad och kvalitet. Renheten för CVD SIC -råmaterial med hög renhet är högre än99.9995%.

Fördelar med CVD SiC -råmaterial med hög renhet

 ● Stor storlek och hög densitet

Den genomsnittliga partikelstorleken är cirka 4-10 mm, och partikelstorleken på inhemska Acheson råvaror är <2,5 mm. Samma volym i Crucible kan innehålla mer än 1,5 kg råmaterial, vilket bidrar till att lösa problemet med otillräcklig tillförsel av storstor kristalltillväxtmaterial, lindring av grafitisering av råvaror, minska kolomslaget och förbättra kristallkvaliteten.

 ●Lågt Si/C -förhållande

Det är närmare 1: 1 än Acheson råvaror i den självförökande metoden, vilket kan minska defekter som induceras genom ökningen av SI-partiellt tryck.

 ●Högutgångsvärde

De odlade råvarorna upprätthåller fortfarande prototypen, minskar omkristalliseringen, minskar grafitiseringen av råvaror, minskar kolomslagsfel och förbättrar kristallkvaliteten.

● Högre renhet

Renheten hos råvaror som produceras med CVD-metoden är högre än för Acheson råvaror i den självförökande metoden. Kväveinnehållet har nått 0,09 ppm utan ytterligare rening. Detta råmaterial kan också spela en viktig roll i det halvisolerande fältet.

● Lägre kostnad

Den enhetliga avdunstningshastigheten underlättar processen och produktkvalitetskontrollen, samtidigt som man förbättrar användningshastigheten för råvaror (användningshastighet> 50%, 4,5 kg råvaror producerar 3,5 kg göt), vilket minskar kostnaderna.

 ●Låg mänsklig felfrekvens

Kemisk ångavsättning undviker föroreningar som introducerats genom mänsklig operation.

Vetek Semiconductor High Purity CVD Sic Raw Material Product Shops: