SiC wafer båt har höga krav på materialrenhet. Vetek Semiconductor levererar SiC renhet >99,96 % omkristalliserad SiC till denna produkt. VeTek Semiconductor är en professionell tillverkare och leverantör i Kina för kiselkarbid wafer båt för horisontell ugn, med många års erfarenhet av forskning och utveckling och produktion, kan kontrollera kvaliteten väl och erbjuda ett konkurrenskraftigt pris. Du kan vara säker på att köpa kiselkarbidskivan för horisontell ugn av oss.
Högkvalitativ silikonkarbidskiva för horisontell ugn erbjuds av den kinesiska tillverkaren VeTek Semiconductor. Köp Kiselkarbid wafer båt för horisontell ugn som är av hög kvalitet direkt från fabrik till lågt pris. Kiselkarbid wafer båt för horisontell ugn används i ugnsrör för lastning och överföring av wafers vid högtemperaturbehandlingar. På grund av de utmärkta egenskaperna hos kiselkarbidmaterial såsom hög temperaturbeständighet, kemisk korrosionsbeständighet och termisk stabilitet, används de i stor utsträckning i olika värmebehandlingsprocesser såsom diffusion, oxidation, CVD och glödgning.
Kiselkarbidwaferbåt för horisontell ugn är gjord av kiselkarbidmaterial och har följande egenskaper:
1. Hög hårdhet och slitstyrka: Kiselkarbid har en hårdhet som är näst efter diamant, vilket gör den mycket slitstark. Detta gör att kiselkarbidbåtar tål upprepade mekaniska stötar och friktion, vilket förlänger deras livslängd.
2. Högtemperaturbeständighet: Kiselkarbid har en smältpunkt på 2730°C, vilket gör båtar av kiselkarbid lämpliga för högtemperaturmiljöer och olika tillverkningsprocesser för halvledartillverkning, såsom högtemperaturoxidation och diffusion.
3. Låg termisk expansionskoefficient: Kiselkarbid har en låg termisk expansionskoefficient, vilket hjälper till att bibehålla dimensionsstabilitet vid höga temperaturer, förhindrar deformation av båten och påverkar bearbetningsnoggrannheten.
4. Bra kemisk stabilitet: Kiselkarbid är resistent mot de flesta kemikalier och reagerar inte med vanliga sura och alkaliska lösningar, vilket säkerställer säkerheten och renheten hos wafers.
Vi kan tillverka olika typer av waferbåtar av kiselkarbid såsom horisontell waferbåt, vertikal waferbåt och andra skräddarsydda båtar.
Vi använder omkristalliserad kiselkarbid med hög renhet med följande parametrar:
Fysikaliska egenskaper hos omkristalliserad kiselkarbid
Egendom
Typiskt värde
Arbetstemperatur (°C)
1600°C (med syre), 1700°C (reducerande miljö)
SiC-innehåll
> 99,96 %
Gratis Si-innehåll
< 0,1 %
Bulkdensitet
2,60-2,70 g/cm3
Synbar porositet
< 16 %
Kompressionsstyrka
> 600 MPa
Kallböjhållfasthet
80-90 MPa (20°C)
Varmböjhållfasthet
90-100 MPa (1400°C)
Termisk expansion @1500°C
4,70x10-6/°C
Värmeledningsförmåga @1200°C
23 W/m•K
Elastisk modul
240 GPa
Motståndskraft mot termisk stöt
Extremt bra
Ansökningar
Kiselkarbidskiva för horisontella ugnar hittar breda tillämpningar inom halvledar- och solcellsindustrin:
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
Vi använder cookies för att ge dig en bättre webbupplevelse, analysera webbplatstrafik och anpassa innehåll. Genom att använda denna sida godkänner du vår användning av cookies. Sekretesspolicy