Högrent kiselkarbid (SiC) pulver

Nyckelfunktioner
• Renheten kan gå upp till 99,9999 % – det är 6N

• Metallföroreningar hålls låga

• GDMS-testdata är tillgängliga på begäran

• Sublimeringsbeteendet förblir konsekvent från batch till batch

• Mindre risk för kontaminering under bearbetning

• Partikelstorleksfördelningen kontrolleras

• Du kan också be om anpassade partikelstorlekar

• Kvalitetskontroll följer standarder av halvledarkvalitet

Partikelstorleksområde:

Pulverrenhet: 

Tekniska specifikationer:

Ansökningar

• SiC Single Crystal Growth (PVT)

• Konduktiva och halvisolerande SiC-substrat

• Halvledarmaterial

• Avancerad keramik

• Forskning och utveckling

Varför välja VeTek Semiconductor?

• Avancerad reningsteknik

• Kvalitetskontroll av halvledarkvalitet

• Anpassade partikelstorleksalternativ

• Stabil och pålitlig försörjning

• Teknisk support för kristalltillväxtapplikationer