High Purity Quartz Wafer Carrier

1. Nyckelfunktioner och fördelar

• Ultrahög renhet dehydroxylerad smält kvarts (SiO₂ ≥ 99,999 %) med metallföroreningar kontrollerade vid ppb-nivåer – minimerar waferkontamination

• Långtidsdriftstemperatur upp till 1100 °C; kortvarig toppmotstånd till 1200 °C

• Utmärkt värmechockbeständighet och dimensionsstabilitet under frekventa temperaturcykler

• Stark kemisk tröghet mot oxiderande processgaser och vanliga våtprocesskemikalier (HF, H₂O₂, syror/alkalier)

• Hög planhet och precisionsslipad yta med rundade kanter för jämnt waferstöd och minskad kantskada

• Låg vakuumavgasning och låg ytadsorption—lämplig för precisionsvakuumprocesser

• Fullständigt anpassningsbara strukturer: solida bärare, perforerade/ventilerade design, stegvisa lokaliseringsfunktioner, positioneringshål, flerpunktsstöd och förtjockade antideformationsdesigner för 2–12 tums wafers

2. Typiska applikationer

Dessa bärare används överallt där wafers behöver rent, formstabilt stöd under förhöjd temperatur eller aggressiv kemi:

• Diffusions- och glödgningsugnsbelastning

• PECVD och LPCVD filmtillväxtprocessstöd

• Vakuumkammare och processverktyg för hög temperatur

• Stationsbärare efter etsning och våtrengöring

• SiC och GaN termisk bearbetning av kraftenheter

• Optoelektroniska substrathantering och termiska laboratorieverktyg

3. Viktiga tekniska parametrar

• Basmaterial: dehydroxylerad smält kvarts av halvledarkvalitet, SiO₂ ≥ 99,999 %

• Kompatibla waferstorlekar: 2, 4, 6, 8 och 12 tum (Si, SiC, GaN, safir)

• Rekommenderat kontinuerligt temperaturområde: −20 °C till 1100 °C; kortvarig topp upp till cirka 1200 °C

• Tillverkningsväg: formning i ett stycke, precisionsslipning av ytor, kantavrundning, avspänningsglödgning och ultraren slutrengöring

• Tillgängliga konfigurationer: solid, ventilerad/perforerad, stegvis lokalisering, hålmönstrad och helt anpassade geometrier

• Prestandafokus: hög renhet, termisk stabilitet, korrosionsbeständighet, ytplanhet, låg utgasning och långvarig dimensionsretention

• Anpassningsomfång: yttermått, tjocklek, stödgeometri, hållayout och specialfunktioner baserat på kundritningar

4. Varför välja VeTek High Purity Quartz Wafer Carriers?

Som en professionell tillverkare av halvledarkvartskomponenter erbjuder VeTek Semiconductor:

• High Purity Quartz Wafer Carriers konstruerade för termiska, vakuum och våta processmiljöer

• Strikt renhetskontroll, ytplanhet och renhet lämplig för avancerad halvledarproduktion

• Fullständig anpassning och OEM-kompatibla konstruktioner för verktyg för ugnar, kammare och processstationer

• Kompletterande halvledarkvartsprodukter inklusive ugnsrör, waferbåtar, deglar och andra processkomponenter

Våra High Purity Quartz Wafer Carriers hjälper till att upprätthålla enhetlig termisk kontakt, minskar partikel- och metallföroreningar och förlänger verktygets livslängd under kontinuerliga högtemperatur- och korrosiva processförhållanden – vilket stödjer högre avkastning och lägre ägandekostnader vid halvledartillverkning.