Branschnyheter

Kiselkarbid omformar halvledarindustrin för kraft- och högtemperaturapplikationer, med dess omfattande egenskaper, från epitaxiala underlag till skyddande beläggningar till elfordon och förnybara energisystem.

Hög renhet: Det epitaxiella kiselskiktet som odlas genom kemisk ångavsättning (CVD) har extremt hög renhet, bättre ytplanhet och lägre defektdensitet än traditionella wafers.

Solid kiselkarbid (SIC) har blivit ett av de viktigaste materialen i halvledartillverkning på grund av dess unika fysiska egenskaper. Följande är en analys av dess fördelar och praktiska värde baserat på dess fysiska egenskaper och dess specifika tillämpningar inom halvledarutrustning (som skivbärare, duschhuvuden, etsning av fokusringar etc.).