Branschnyheter

CVD TAC -beläggning är en process för att bilda en tät och hållbar beläggning på ett underlag (grafit). Denna metod involverar avsättning av TAC på substratytan vid höga temperaturer, vilket resulterar i en tantalkarbid (TAC) beläggning med utmärkt termisk stabilitet och kemisk resistens.

När processen med 8-tums kiselkarbid (SIC) mognar, accelererar tillverkarna övergången från 6-tums till 8-tums. Nyligen, på halvledare och Resonac tillkännagav uppdateringar om 8-tums SIC-produktion.

Den här artikeln introducerar den senaste utvecklingen i den nyligen utformade PE1O8 Hot-Wall CVD-reaktorn för det italienska företaget LPE och dess förmåga att utföra enhetlig 4H-SIC-epitaxi på 200 mm SIC.